logo

HanWei Uniform Beam Energieverdelings Halfgeleider Laserlasmachine

Basiseigenschappen
Plaats van oorsprong: Shenzhen, China
Merknaam: HanWei
Certificering: CE
Modelnummer: HW-D
Handelsgoederen
Minimale bestelhoeveelheid: 1 set
Prijs: USD / Set
Betalingsvoorwaarden: T/T
Toeleveringsvermogen: 2000 sets / jaar
Specificaties
Laser Head Structure: T / f / y 36 -serie Model: HW-D
Laser Power: 200W - 1000W Wavelength: 915 nm ± 5
Connection: SMA905 / QBH Cooling method: Lucht/waterkoeling
Cooling mode: CW / QCW / PWM met timingcontrole Fiber core(um): 100/200 um
Laser Source Size: 525*430*225 mm
High Light:

uniforme balk laserlasmachine

,

halfgeleiderlaserlasmachine

,

aluminium laserlasmachine met garantie

Productbeschrijving
HanWei Uniform Beam Energy Distribution Semiconductor Laser Welding Machine

De halfgeleiderlaserlassenmachine gebruikt een met vezels gekoppelde halfgeleiderlaserbron om laserenergie rechtstreeks naar het verwerkingsgebied te leveren.halfgeleiderlaserbronnen bieden een hogere elektro-optische conversie efficiëntie, waardoor het energieverbruik tijdens de werking wordt verminderd.


De laserlaserlaser lasmachine heeft een compacte structuur en vereist minder plaats dan veel conventionele lassystemen.De compacte configuratie maakt het gemakkelijker om bestaande productieapparatuur te plaatsen en te integreren in verschillende productieomgevingenDe machine is ook uitgerust met Hanwei's onafhankelijk ontwikkelde laserbronbesturingssysteem, dat de basis vormt voor een stabiele laseruitgang en een concurrerende uitrustingskosten biedt.

HW Diode Laser Welding Machine
Belangrijkste kenmerken
  • Eenvormige energieverdeling.
  • ruimtebesparende configuratie voor flexibele integratie.
  • Brede en gelijkmatige lichtverdeling.
  • Geschikt voor gevoelige en dunne materialen
Technische specificaties
Model HW-D
Laservermogen 200 W - 1000 W
Waallengte 915 nm ±5
Fibre kern ((um)) 100/200 um
Verbinding SMA905 / QBH
Werkwijze CW / QCW / PWM met tijdregeling
Primaire toepassingen

Een belangrijk kenmerk van het laseren van halfgeleiders is de relatief grote laservlek.De uitgezonden straal zorgt voor een meer gelijkmatig verdeeld energieprofiel over het werkgebied in plaats van de energie te concentreren in een extreem klein puntDit maakt het systeem geschikt voor toepassingen waarbij een gecontroleerde oppervlakteverwarming vereist is en helpt een meer consistent thermisch effect te bieden in de hele laszone.


De halfgeleiderlasersweismachine is bijzonder geschikt voor processen die een matige en goed verdeelde warmte-invoer vereisen.,Het kan worden overwogen voor productieprocessen waarbij elektronische onderdelen, kleine metalen onderdelen, kunststofassemblages,en andere producten waarvoor lokale verwarming en gecontroleerde energievoorziening vereist zijnVoor productiegebruik moeten de lasparameters worden geselecteerd op basis van het specifieke materiaal, de dikte, de verbindingsstructuur en het gewenste resultaat.